인싸잇=이서호 기자 | 삼성전자가 네덜란드 반도체 노광설비 기업 ASML과 손을 잡았다. ASML이 주도하는 ‘대형 마스크 컨소시엄’에 참여하고 차세대 12인치 포토 마스크 공동 개발에 나서 반도체 경쟁력을 강화하겠다는 구상이다.

삼성전자는 8일 ASML과 차세대 반도체 제조 협력을 확대한다고 밝혔다.

대형 마스크 컨소시엄은 현재 반도체 노광설비에 사용되는 6인치를 12인치로 전환하기 위한 협의체다. 노광설비와 포토 마스크 관련 글로벌 기술 동향을 함께 모니터링하고 12인치 포토 마스크 개발을 목표로 공동 연구, 표준 개발 등의 협력 활동을 펼칠 계획이다.

포토 마스크는 미세 회로 패턴을 정밀 ‘마스크(틀)’로 노광설비 내에서 빛을 통해 웨이퍼에 설계된 패턴을 새기는 필수 도구를 의미한다. 포토마스크에 새기는 회로 패턴이 미세하고 정밀할수록 웨이퍼에 전사되는 패턴의 정확도가 높아져 불량률과 원가를 낮출 수 있다.

그동안 반도체 노광 공정에 6인치 마스크가 사용되어 온 것과 달리 최근 12인치 마스크가 주목받는 이유는 작업 과정에 있다. 6인치 마스크를 활용하면 넓은 회로를 여러 차례 나눠 새긴 뒤 이를 연결하는 스티칭 작업이 필요한데, 마스크 크기를 확대하면 이러한 제약을 해소할 수 있어 팹 생산성을 높이고 칩 제조 비용도 낮출 수 있다.

삼성전자는 ASML과 2028년까지 첨단 D램 제조에 차세대 노광 설비 High NA EUV 도입을 위한 협력도 강화할 계획이다. 회사는 이를 통해 D램 미세화 로드맵을 연장하고 공정 단순화와 생산성 제고를 동시에 실현할 수 있을 것으로 기대한다.

전영형 삼성전자 대표이사 부회장은 “인공지능(AI) 시대의 도래는 반도체 산업 패러다임을 바꾸고 있으며 밸류체인 전반에서 혁신의 중요성을 높이고 있다”며 “삼성전자는 혁신 기술과 강한 파트너십을 바탕으로 파운드리와 메모리를 포함한 첨단 반도체 제조 리더십을 이어가고 ASML과의 협력을 강화하겠다”고 밝혔다.

크리스토프 푸케 ASML 최고경영자(CEO)는 “삼성전자는 오랜 기간 ASML의 가장 중요한 혁신 파트너 중 하나로 그동안 현대 반도체 제조의 기반이 되는 기술을 함께 발전시켜 왔다”며 “AI가 이끄는 새로운 시대를 맞이하여 삼성전자와 함께 반도체 제조 혁신을 이끌어 가기를 기대한다”고 말했다.